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如何解決平面拋光機拋光速率低的問題

  • 作者:admin
  • 博客
  • 時間:2019-05-10
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摘要:在操作平面拋光機的時候經(jīng)常出現(xiàn)拋光速率突然降低,對接下來的拋光工藝效率帶來很多不便。下面 研磨機 廠家就來為大家解答如何解決平面拋光機速率降低的情況。 首先拋光機的拋光速率低解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。 粗拋目的是去除
      在操作平面拋光機的時候經(jīng)常出現(xiàn)拋光速率突然降低,對接下來的拋光工藝效率帶來很多不便。下面研磨機廠家就來為大家解答如何解決平面拋光機速率降低的情況。
 
    首先拋光機的拋光速率低解決這個矛盾的最好的辦法就是把拋光分為兩個階段進行。
 
  粗拋目的是去除磨光損傷層,這一階段應具有最大的拋光速率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮,不過也應當盡可能小;其次是精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產(chǎn)生的表層損傷,使拋光損傷減到最小。拋光機拋光時,試樣磨面與拋光盤應絕對平行并均勻地輕壓在拋光盤上,注意防止試樣飛出和因壓力太大而產(chǎn)生新磨痕。
 
     同時,還應使試樣自轉(zhuǎn)并沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移動,以避免拋光織物局部磨損太快在拋光過程中要不斷添加微粉懸浮液,使拋光織物保持一定濕度。濕度太大會減弱拋光的磨痕作用,使試樣中硬相呈現(xiàn)浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石墨相產(chǎn)生“曳尾”現(xiàn)象;濕度太小時,由于摩擦生熱會使試樣升溫,潤滑作用減小,磨面失去光澤,甚至出現(xiàn)黑斑,輕合金則會拋傷表面。
 
  當然,我們?yōu)榱诉_到粗拋的目的,要求轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速較低,最好不要超過600r/min;拋光時間應當比去掉劃痕所需的時間長些,因為還要去掉變形層。粗拋后磨面光滑,但黯淡無光,在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕,有待精拋消除。
 
        以上就是研磨機廠家給大家?guī)淼慕鉀Q方案,希望通過這篇文章能夠幫助大家。
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